氯化銅再生控制器

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                化學鍍鎳控制器的性能和參數

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                化學鍍鎳控制器的性能和參數

                發布日期:2014-11-27 00:00 來源:http://www.baihedh.com 點擊:

                化學鍍鎳控制器的性能和參數
                測量性能
                ? 濃度范圍 (WCU): 0.01~5.5 g/L (0.001~0.73 oz/gal)
                ? 鎳的濃度范圍 (WNI): 0.01~10 g/L (0.001~0.73 oz/gal)
                ? 精度: 0.01 g/L (0.001 oz/gal)
                Walchem的WCU410鍍銅控制器和WNI410鍍鎳控制器是應用光電學原理在線分析測量溶液中銅或鎳的濃度。其應用廣泛,包括無電解化學鍍槽和微蝕刻槽(包括氧化還原類)。
                WCU410可以通過菜單切換化學鍍銅至微蝕應用,無需增加另一臺控制器。減少滴定檢驗的工序從而提高效率;應用于微蝕刻工藝時,減少更換槽內液體的頻率而提高生產力。
                WNI410供鍍鎳控制,可增加PH控制器。設有兩個控制泵之獨立輸出信號,供鎳鍍液和還原劑而設;另一個輸出專為pH而設。每個輸出端口都可以統計泵的運作時間、總流量和金屬離子周轉量。
                已通過UL/CSA/CE認證。
                參數調整
                用戶可以輕易地調整濃度設定點、警報設定點(上限及下限)、緩沖范圍及泵運作時間。而聯鎖功能通過外接組件(例如流量開關)連結同時控制繼電器。
                簡單、綜合的數據采集
                只需一個U盤即可從控制器下載存儲的數據。使用這些數據可以驗證系統性能,而數據和事件日志顯示銅或鎳數值以及化學品累計投放量和繼電器啟動時間。
                4個獨立控制繼電器及輸出端口(WCU)
                可用于添加銅液、腐蝕劑、甲醛或螯合劑/穩定劑。每個輸出端口都統計總補充量(以時間或流量為單位)。
                可選的pH輸入組件(WNI)
                可用于添加調節pH值的化學品,輸出端口統計總補充量(以時間或流量為單位)。
                濃度讀數單位
                選擇以克/每升(g/L)或盎司/每加侖(oz/gal)為單位。背光電子顯示屏能夠提供柱狀圖,將設定點與測量值的數據連續顯示。

                相關標簽:化學鍍鎳控制器,比重控制器,PH控制器

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