氯化銅再生控制器

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                酸性氯化銅蝕刻液

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                酸性氯化銅蝕刻液

                發布日期:2014-06-28 09:23 來源:http://www.baihedh.com 點擊:

                1、 特性
                適用于生產多層板內層,掩蔽法印制板和單面印制板,采用的抗蝕劑是網印抗蝕印料、干膜、液體感光抗蝕劑,也適用于圖形電鍍金抗蝕印制電路板的蝕刻。
                A, 蝕刻速率易控制,B, 蝕刻液在穩定的狀態下,C, 能達到高的蝕刻質量。
                D, 溶銅量大。E, 蝕刻液容易再生與回收,F, 減少污染。
                2、 化學組成:
                化學組分              1         2          3           4            5
                Cucl2.2H2O     130-190g/l      200g/l     150-450g/l   140-160g/l    145-180g/l
                HCL           150-180ml/l     100ml/l                7-8g/l        120-160g/l
                NaCL                         100g/l    
                NH4CL                                  飽和平共處  160g/l      
                H2O          添加到1升    添加到1升  添加到1升   添加到1升  添加到1升
                3、 蝕刻原理
                在蝕刻過程中,氯化銅中的二價銅具有氧化性,能將印制電路板面上的銅氧化成一價銅,其化學反應如下:
                              蝕刻反應:CU+CUCL2→CU2CL2 

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